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邱素娟
面上项目
项目编号:
68876215 【年份:1988】
项目名称:
改善GaAsMESFET功率线性离子注入与退火技术研究
资助金额:
3万
单位名称:
中国电子科技集团公司第十三研究所
学科分类:
F0404.半导体电子器件与集成
参与者:
中国电子科技集团公司第十三研究所
改善GaAsMESFET功率线性离子注入与退火技术研究
项目批准号:
68876215
批准年份:
1988
学科分类:
F0404.半导体电子器件与集成
项目负责人:
邱素娟
资助类别:
面上项目
负责人职称:
高级工程师
依托单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
资助金额:
3万元
关键词:
离子注入;杂质剪裁;功率GAASMESFET
起止时间:
1989-01-01到1991-12-31
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