低共熔溶剂中电化学抛光1.3 GHz单cell射频超导腔的研究
11705252
2017
A2801.加速器物理
初青伟
青年科学基金项目
高级工程师
中国科学院近代物理研究所
23万元
表面处理;电化学抛光;射频超导腔;低共熔溶剂
2018-01-01到2020-12-31
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| 序号 | 标题 | 类型 | 作者 |
|---|---|---|---|
| 1 | THE MECHANISM OF ELECTROPOLISHING OF NIOBIUM FROM CHOLINE CHLORIDE-BASED DEEP EUTECTIC SOLVENTS | 会议论文 | Qingwei Chu;Andong Wu;Shichun Huang;Zhiming You;Hao Guo |
| 2 | 用于去除铜表面铌镀层的化学退镀液和退镀方法 | 专利 | 初青伟;谭腾;何源;郭浩;熊平然;游志明 |
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