一种新的纳米光刻对准方法研究
60706005
2007
F0406.集成电路器件、制造与封装
马平
青年科学基金项目
副研究员
中国科学院光电技术研究所
7万元
高分辨力接近接触式光刻;纳米对准;对准标记;对准精度。
2008-01-01到2008-12-31
- 中英文摘要
- 结题摘要
- 结题报告
- 项目成果
- 项目参与人
查看更多信息请先登录或注册
查看更多信息请先登录或注册
查看更多信息请先登录或注册
| 序号 | 标题 | 类型 | 作者 |
|---|---|---|---|
| 1 | 纳米光刻中莫尔对准模型与应用 | 期刊论文 | |
| 2 | 纳米光刻双光栅对准莫尔条纹分析 | 期刊论文 | |
| 3 | 基于双光栅的纳米测量方法 | 期刊论文 | |
| 4 | 纳米光刻对准方法及其原理 | 期刊论文 | |
| 5 | Fourier-based analysis of moiré fringe patterns of superposed gratings in alignment of nanolithography | 期刊论文 |
查看更多信息请先登录或注册
