超级化学铜沉积的机理研究

20573073
2005
B0205.电化学
王增林
面上项目
教授
陕西师范大学
26万元
SPS;电化学测定;超级化学填充;沉积机理;计算机模拟..
2006-01-01到2008-12-31
  • 中英文摘要
  • 结题摘要
  • 结题报告
  • 项目成果
  • 项目参与人
查看更多信息请先登录或注册
查看更多信息请先登录或注册
查看更多信息请先登录或注册
重置
序号 标题 类型 作者
1 化学镀技术在超大规模集成电路互连线制造过程的应用 期刊论文 姜洪艳|新宫原 正三|王增林|王秀文|刘志鹃|
2 不同分子量PEG的铜电镀液对电化学沉积铜行为的研究 期刊论文 殷列|王增林|
3 不同分子量 PEG 的对电镀铜微孔填充行为的研究 会议论文 殷列|高彦磊|刘宗怀|刘志娟|王增林|杨祖培|
4 Characterization of electroless-plated Cu film over Pd catalytic layer formed by an ionized cluster beam 期刊论文 Wang, ZL|Shingubara, S|Takahagi, T|Sakaue, H|
5 Effect of triethanolamine on deposition rate of electroless copper plating 期刊论文 Jiang, H. Y.|Liu, Z. J.|Wang, Z. L.|Wang, X. W.|
6 三乙醇胺对超级化学镀铜沉积速率的影响 会议论文 刘志鹃|王秀文|王增林|姜洪艳|
7 电化学研究化学镀铜溶液中三乙醇胺和亚铁氰化钾的作用机理 会议论文 姜洪艳|刘宗怀|王增林|杨祖培|高彦磊|
8 Characterization of sputtered tungsten nitride film and its application to Cu electroless plating 期刊论文 Shingubara, Shoso|Liu, Zonghuai|Wang, Zenglin|Yang, Zupei|
9 ABS 工程塑料表面无铬粗化研究 会议论文 王增林|
10 高密度印刷电路板铜金属化工艺的研究 会议论文 王增林|
11 超级化学镀铜沉积机理的研究 会议论文 杨祖培|王增林|王秀文|刘宗怀|
12 高锰酸钾溶液粗化环氧树脂板的研究 期刊论文 姜洪艳|刘志鹃|王增林|王秀文|
13 Bottom-up fill mechanisms of electroless copper plating with addition of mercapto alkyl carboxylic acid 期刊论文 Jiang, HY|Wang, XW|Liu, ZJ|Wang, ZL|
14 化学镀和电镀技术半导体和印刷电路板中的应用 会议论文 王增林|
15 New Rare Earth(III) Complexes with H2tmtaa, 期刊论文 王增林|
16 电化学研究化学镀铜溶液中三乙醇胺和亚铁氰化钾的作用机理 会议论文 高彦磊|杨祖培|刘宗怀|姜洪艳|王增林|
17 化学镀铜技术的最新进展 期刊论文 王增林|殷列|杨祖培|刘宗怀|白红军|高彦磊|
18 超级化学镀铜沉积机理的研究 会议论文 刘宗怀|王秀文|杨祖培|王增林|
19 Crystal structure of tetra[(3,5-pyrazoledicarboxylic)(tripyridine)-nickel(II)] —pyridine—methanol —water (1:2:5:3), [Ni(C5H2N2O4)(C5H5N)3]4 · 2C 5H5N·5CH3OH·3H2O 期刊论文 Zenglin Wang|Hongjun Bai|Fugang Xin|
20 添加剂对脉冲酸性镀铜通孔均匀沉积的影响 期刊论文 王增林|王绍男|
21 化学镀技术在超大规模集成电路互连线制造过程中的应用 会议论文 王增林|
22 Bottom-up fill of Cu in ultra-fine hole by electroless palting 期刊论文 王增林|新宫原正三|
23 化学镀铜技术的最新进展 会议论文 王增林|
24 环氧树脂板在高锰酸钾溶液中粗化的研究 会议论文 王增林|王秀文|姜洪艳|刘志鹃|
25 Bottom-up copper fill with addition of mercapto alkyl carboxylic acid in electroless plating 期刊论文 Obata, R|Takahagi, T|Sakaue, H|Wang, ZL|Shingubara, S|
查看更多信息请先登录或注册