锗硅量子点分子的耦合效应研究
序号 | 标题 | 类型 | 作者 |
---|---|---|---|
1 | The study of double layer quan | 会议论文 | Fengying Yuan, Zuiming Jiang a |
2 | Ge/Si 量子点退火特性研究 | 会议论文 | 蔡其佳,和川,陶镇生,陆昉 |
3 | Admittance spectroscopy of Si/ | 期刊论文 | Xi Li,W. Xu, Feng Ying Yuan, |
4 | Optical spectrum of a two-dime | 期刊论文 | C.H.Yang,W.Xu,Z.Zeng,F.Lu,andC |
5 | 生长在GeSi应变合金层上的Ge量子 | 会议论文 | 陶镇生,占宁,杨洪斌,蒋最敏, |
6 | Energy levels in doped SiGe qu | 期刊论文 | X.S. Cai, J. Qin, H.B. Yang, F |
7 | Admittance spectroscopy of GeS | 期刊论文 | Xi Li, W. Xu, Shihai Cao, Qiji |
8 | Technique to detect two-photon | 期刊论文 | Yan Ling and Fang Lu |
9 | 锗硅双层量子点耦合效应的研究 | 会议论文 | 原凤英,蒋最敏,陆昉 |
10 | The Study of coupling effect i | 期刊论文 | Fengying Yuan,Zuimin Jiang an |
11 | The effects of thermal anneali | 期刊论文 | Qijia Cai,Hao Zhou, Fang Lu |