【11675118】甚高频等离子体溅射制备类硅烯及生长机制的研究国家自然基金项目 - 国家自然科学基金查询网

甚高频等离子体溅射制备类硅烯及生长机制的研究

项目批准号： 11675118

批准年份： 2016

学科分类： A2907.低温等离子体

项目负责人：叶超

资助类别：面上项目

负责人职称：研究员

依托单位：苏州大学

资助金额： 76万元

关键词：甚高频磁控溅射;离子能量与通量诊断;薄膜制备

起止时间： 2017-01-01到2020-12-31

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项目成果
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序号	标题	类型	作者
1	Initial growth and microstructure feature of Ag films prepared by very-high-frequency magnetron sputtering	期刊论文	Yue Zhang;Chao Ye;Xiang-Ying Wang;Pei-Fang Yang;Jia-Min Guo;Su Zhang
2	Plasma impedance characteristics of radio frequency and very high-frequency magnetron discharges	期刊论文	X. Liu;C. Ye;X. Wang;S. Zhang;M. Zhu;A. Jiang
3	Control of growth and structure of Ag films by the driving frequency of magnetron sputtering	期刊论文	Peifang YANG;Chao YE;Xiangying WANG;Jiamin GUO;Su ZHANG
4	低温等离子体诊断原理与技术	专著	叶超
5	Ion property and electrical characteristics of 60MHz very-high-frequency magnetron discharge at low pressure	期刊论文	Amin JIANG;Chao YE;Xiangying WANG;Min ZHU;Su ZHANG
6	Effect of radio-frequency substrate bias on ion properties and sputtering behavior of 2 MHz magnetron sputtering	期刊论文	Min ZHU;Chao YE;Xiangying WANG;Amin JIANG;Su ZHANG
7	27.12MHz基片偏压在调控磁控溅射离子能量中的作用	期刊论文	吴茂成;叶超;刘溪悦
8	Effect of driving frequency on the structure of silicon grown on Ag (111) films by very-high-frequency magnetron sputtering	期刊论文	Jia-Min Guo;Chao Ye;Xiang-Ying Wang;Pei-FangYang;Su Zhang
9	Growth and structural properties of silicon on Ag films prepared by 40.68 MHz very-high-frequency magnetron sputtering	期刊论文	Jiamin GUO;Chao YE;Xiangying WANG;Peifang YANG;Su ZHANG

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