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王德君
面上项目
项目编号:
61874017 【年份:2018】
项目名称:
SiC MOS器件近界面氧化物缺陷与阈值电压漂移抑制技术研究
资助金额:
63万
单位名称:
大连理工大学
学科分类:
F0404.半导体电子器件与集成
参与者:
大连理工大学
SiC MOS器件近界面氧化物缺陷与阈值电压漂移抑制技术研究
项目批准号:
61874017
批准年份:
2018
学科分类:
F0404.半导体电子器件与集成
项目负责人:
王德君
资助类别:
面上项目
负责人职称:
教授
依托单位:
大连理工大学
资助金额:
63万元
关键词:
MOS;阈值电压漂移;近界面氧化物缺陷;碳化硅
起止时间:
2019-01-01到2022-12-31
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