基于同步辐射光刻的大深宽比微结构滚压印技术研究
50905173
2009
E0512.微纳机械系统
李木军
青年科学基金项目
副教授
中国科学技术大学
20万元
压模制作;滚压印;超精密加工;同步辐射光刻;大深宽比
2010-01-01到2012-12-31
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| 序号 | 标题 | 类型 | 作者 |
|---|---|---|---|
| 1 | A fast method for analyzing the effect of mask error on photolithography pattern quality | 期刊论文 | Mujun Li|Huichun Ye|Lianguan Shen| |
| 2 | 基于ABAQUS的微结构滚压印仿真 | 期刊论文 | 刘阳|沈连婠|叶回春|李木军| |
| 3 | Numerical analysis of molding process for roll imprinting based on ABAQUS | 会议论文 | Huichun Ye|Yang Liu|Lianguan Shen|Mujun Li| |
| 4 | An Improved Edge Extraction Algorithm for Lithography Micrographs | 期刊论文 | Gong Shan-shan|Li Mu-jun| |
| 5 | 基于MC算法的光刻仿真微结构的三维重建 | 期刊论文 | 宫珊珊|李木军|(Department of Mathematics & Physics,Anhui Univers| |
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