基于电子束光刻的纳机电系统结构工艺方法研究
91123026
2011
F0407.微纳机电器件与控制系统
张大成
重大研究计划
教授
北京大学
60万元
工艺平台;电子束光刻;纳尺度结构;图形转移;工艺流程设计
2012-01-01到2014-12-31
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| 序号 | 标题 | 类型 | 作者 |
|---|---|---|---|
| 1 | <span style="font-size:10.5pt;font-family:" background:fuchsia;"="">process-inducedstress and hydrogen effects on monolithic integrated CMOS-MEMS micro-bimaterialcantilever sensor array</span> | 会议论文 | Danqi Zhao|Fang Yang|Peng Liu|Chen Lin|Jun He|Xian Huang|Dan Li|Xia Zhang|Dacheng Zhang| |
| 2 | process-induced stress and hydrogen effects on monolithic integrated CMOS-MEMS micro-bimaterial cantilever sensor array | 会议论文 | Danqi Zhao|Dacheng Zhang| |
| 3 | <span style="font-size:10.5pt;font-family:" background:fuchsia;"="">Hard mask free DRIEof crystalline Si nanobarrel with 6.7nm wall thickness and 50:1 aspect ratio</span><br /> | 会议论文 | Peng Liu|Fang Yang|Wei Wang|Wei Wang|Kui Luo|Ying Wang|Dacheng Zhang| |
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